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金属表面处理 抛光粉研磨材料 抛光粉研磨抛光好帮手

2021/6/15 20:47:41发布126次查看
'【金属表面处理】抛光粉研磨材料 抛光粉研磨抛光好帮手
 抛光粉 - 1、抛光粉的简介
俗称:研磨粉、除油粉
适用物料:自行车、铝压铸件、锌压铸件、家具五金配件、服装五金配件、箱包五金配件、眼镜配件、钟表配件、锁、电子配件、各类首饰、珠宝及粉末冶金、树脂等。
应用领域:主要用于高要求的抛光产品,精光研磨,切削力量低,光泽度高,抛光粉作业后工件表面达到精光效果。
抛光粉产品特色:
   1. 采用混合稀土作为原料,经氟化焙烧制成的棕红色抛光粉,通用性强,可用于多种光学元件,晶体,高精度要求的平板玻璃等抛光。
   2. 平均粒度1.2-1.6微米,最大颗粒小于7.51um,可满足多种产品的精度要求。
   3. 抛光速度快,颗粒耐磨性好;悬浮性好,且易清洗。
抛光粉应用广泛:
   1 、电子行业:电子行业单晶矽片的研磨以及pcb金相切片的研磨;
   2 、装饰行业:不锈钢餐具及其它装饰材料的抛光
   3 、喷涂材料:等粒子喷涂;
   4 、光學玻璃冷加工。
抛光粉 - 2、抛光粉的材料
  抛光粉通常由氧化铈、氧化铝、氧化硅、氧化铁、氧化锆、氧化铬等组份组成,不同的材料的硬度不同,在水中的化学性质也不同,因此使用场合各不相同。氧化铝和氧化铬的莫氏硬度为9,氧化铈和氧化锆为7,氧化铁更低。氧化铈与硅酸盐玻璃的化学活性较高,硬度也相当,因此广泛用于玻璃的抛光。   为了增加氧化铈的抛光速度,通常在氧化铈抛光粉加入氟以增加磨削率。铈含量较低的混合稀土抛光粉通常掺有3-8的氟;纯氧化铈抛光粉通常不掺氟。   对zf或f系列的玻璃来说,因为本身硬度较小,而且材料本身的氟含量较高,因此因选用不含氟的抛光粉为好。
抛光粉 - 3、对抛光粉的基本要求
(1)微粉粒度均匀一致,在允许的范围之内;   
(2)有较高的纯度,不含机械杂质;   
(3)有良好的分散性和吸附性,以保证加工过程的均匀和高效;   
(4)粉末颗粒有一定的晶格形态,破碎时形成锐利的尖角,以提高抛光效率;   
(5)有合适的硬度和密度,和水有很好的浸润性和悬浮性,因为抛光粉需要与水混合
抛光粉 - 4、氧化铈的颗粒度
  粒度越大的氧化铈,磨削力越大,越适合于较硬的材料,zf玻璃应该用偏细的抛光粉。要注意的是,所有的氧化铈的颗粒度都有一个分布问题,平均粒径或中位径d50的大小只决定了抛光速度的快慢,而最大粒径dmax决定了抛光精度的高低。因此,要得到高精度要求,必须控制抛光粉的最大颗粒。
抛光粉 - 5、抛光粉的硬度
  抛光粉的真实硬度与材料有关,如氧化铈的硬度就是莫氏硬度7左右,各种氧化铈都差不多。但不同的氧化铈体给人感觉硬度不同,是因为氧化铈抛光粉通常为团聚体,附图为一个抛光粉团聚体的电镜照片。由于烧成温度不同,团聚体的强度也不一样,因此使用时会有硬度不一样的感觉。当然,有的抛光粉中加入氧化铝等较硬的材料,表现出来的磨削率和耐磨性都会提高。
抛光粉 - 6、抛光浆料的浓度
  抛光过程中浆料的浓度决定了抛光速度,浓度越大抛光速度越高。使用小颗粒抛光粉时,浆料浓度因适当调低。
抛光粉 - 7、抛光模的选择
  抛光模应该用软一点的。应该指出的是,很多聚氨酯抛光片中添加了氧化铈抛光粉。这些抛光粉的最大颗粒度同样决定了最终的抛光精度。依我之间,最好使用不加抛光粉的抛光模。   影响抛光粉性能的指标  
 1、粉体的粒度大小:决定了抛光精度和速度,常用多少目和粉体的平均粒度大小来。过筛的筛网目数能掌握粉体相对的粒度的值,平均粒度决定了抛光粉颗粒大小的整体水平。  
 2、粉体莫氏硬度:硬度相对大的粉体具有较快的切削效果,同时添加一些助磨剂等等也同样能提高切削效果;不同的应用领域会有很大出入,包括自身加工工艺。   
3、粉体悬浮性:好的粉要求抛光粉要有较好的悬浮性,粉体的形状和粒度大小对悬浮性能具有一定的影响,片形及粒度细些的抛光粉的悬浮性相对的要好一些,但不是决对的。抛光粉悬浮性能的提高也可通过加悬浮液(剂)来改善。   
4、粉体的晶型:粉体的晶型是团聚在一起的单晶颗粒,决定了粉体的切削性、耐磨性及流动性。粉体团聚在一起的单晶颗粒在抛光过程中分离(破碎),使其切削性、耐磨性逐渐下降,不规则的六边形晶型颗粒具有良好的切削性、耐磨性和流动性。   
5、外观颜色:原料中pr的含量及灼烧温度等因素有关,镨含量越高,其粉体显棕红色。低铈抛光粉中含有大量的镨(铈镨料),使其显棕红色。高铈抛光粉,灼烧温度越高,其显偏白粉色,温度低(900度左右),其显淡黄色。
抛光粉 - 8、 抛光粉的生产原料
  目前,生产铈系稀土抛光粉的原料有下列几种:  
(1)氧化铈(ceo2),由混合稀土盐类经分离后所得(w(ceo2)=99%);   
(2)混合稀土氢氧化物(re(oh)3),为稀土精矿(w(reo)≥50%)化学处理后的中间原料(w(reo)=65%,w(ceo2)≥48%);   (3)混合氯化稀土(recl3),从混合氯化稀土中萃取分离得到的少铕氯化稀土(主要含la,ce,pr和nd,w(reo)≥45%,w(ceo2)≥50%);  
 (4)高品位稀土精矿(w(reo)≥60%,w(ceo2)≥48%),有内蒙古包头混合型稀土精矿,山东微山和四川冕宁的氟碳铈矿精矿。   以上原料中除第1种外,第2,3,4种均含轻稀土(w(reo)≈98%),且以ceo2为主,w(ceo2)为48%~50%。我国具有丰富的铈资源,据测算,其工业储量约为1800万吨(以ceo2计),这为今后我国持续发展稀土抛光粉奠定了坚实的基础,也是我国独有的一大优势,并可促进我国稀土工业继续高速发展。  
抛光粉产品图如下: 
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